干膜光致抗蝕劑由聚酯薄膜，光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護膜三部分組成。 聚酯薄膜是支撐感光膠層的載體，使之涂布成膜，厚度通常為25μm左右。聚酯薄膜在曝 光之后顯影之前除去，防止曝光時氧氣向抗蝕劑層擴散，破壞游離基，引起感光度下降。 聚乙烯膜是復蓋在感光膠層上的保護膜，防止灰塵等污物粘污干膜，避免在卷膜時，每層 抗蝕劑膜之間相互粘連。聚乙烯膜一般厚度為25μm左右。

光致抗蝕劑膜為干膜的主體，多為負性感光材料，其厚度視其用途不同，有若干種規格，最薄的可以是十幾個微米，最厚的可達100μm。干膜光致抗蝕劑的制作是先把預先配制好的感光膠在高清潔度的條件下，在高精度的涂布機上涂覆于聚酯薄膜上，經烘道干燥并冷卻后，覆上聚乙烯保護膜，卷繞在一個輥芯上。

光致抗蝕劑膜層的主要成分及作用:( 我國大量用于生產的是全水溶性干膜，這里介紹的是全水溶性干膜感光膠層的組成。)
1)粘結劑(成膜樹脂)
作為光致抗蝕劑的成膜劑，使感光膠各組份粘結成膜，起抗蝕劑偽骨架作用，它在光致聚合過程中不參與化學反應。 要求粘結劑具有較好的成膜性；與光致抗蝕劑的各組份有較好的互溶性；與加工金屬表面 有較好的附著力；它很容易從金屬表面用堿溶液除去；有較好的抗蝕、抗電鍍、抗冷流、耐熱等性能。 粘結劑通常是酯化或酰胺化的聚苯乙烯——順丁烯二酸酐樹脂(聚苯丁樹脂)。

2)光聚合單體
它是光致抗蝕劑膠膜的主要組份，在光引發劑的存在下，經紫外光照射發生聚合反應，生成體型聚合物，感光部分不溶于顯影液，而未曝光部分可通過顯影除去，從而形成抗蝕圖像。多元醇烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類是廣泛應用的聚合單體，例如季戊四醇三丙烯酸酯是較好的 光聚合單體。

3)光引發劑
在紫外光線照射下，光引發劑吸收紫外光的能量產生游離基，而游離基進一步引發光聚合單體交聯。干膜光致抗蝕劑通常使用安息香醚、叔丁基恿醌等作光引發劑。

4)增塑劑
可增加干膜抗蝕劑的均勻性和柔韌性。三乙二醇雙醋酸脂可作為增塑劑。

5)增粘劑
可增加干膜光致抗蝕劑與銅表面的化學結合力，防止因粘結不牢引起膠膜起翹、滲鍍等弊 病。常用的增粘劑如苯并三氮唑。

6)熱阻聚劑
在干膜的生產及應用過程中，很多步驟需要接受熱能，為阻止熱能對干膜的聚合作用加入熱阻聚劑。如甲氧基酚、對苯二酚等均可作為熱阻聚劑。

7)色料
為使干膜呈現鮮艷的顏色，便于修版和檢查而添加色料。如加入孔雀石綠、蘇丹三等色料 使干膜呈現鮮艷的綠色、蘭色等。

8)溶劑
為溶解上述各組份必須使用溶劑。通常采用丙酮、酒精作溶劑。 此外有些種類的干膜還加入光致變色劑，使之在曝光后增色或減色，以鑒別是否曝光，這 種干膜又叫變色于膜。